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好消息:中国光刻机迎来新突破!坏消息:特朗普或加大对华为限制

时间:2020-05-01 06:51:46

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好消息:中国光刻机迎来新突破!坏消息:特朗普或加大对华为限制

华为被特朗普和美国限制和打压,美国对华为的打压使的华为在研制芯片方面受阻,还压制了我国半导体芯片技术的崛起。

我国在芯片事业上起步相对来说晚了很多,还受到了国外技术的封锁,所以我国在这一方面一直都比较落后。但是近几年我国出了很多出色的半导体芯片公司,使我国在这方面有所改善。

近两年华为的芯片技术不仅在我国是顶尖的,就算是全世界也是属于顶尖的,但是华为的产能方面并不怎么样,所以美国可以封锁华为芯片的主要原因。华为在美国禁令之前一直都是由台积电代工芯片的,在美国下达新禁令之后就没办法继续和华为保持合作了。因为台积电的设备里面也有美国的核心技术,所以受到美国禁令的影响,这也是没办法的。

如果华为芯片的代工方面可以找到能代替台积电的存在的话,那么华为目前的问题就可以解决了。但是目前国内并没有可以代替台积电的代工厂,因为台积电它具有高端的光刻机,但是我们在这方面是空白的。

光刻机也是芯片生产的过程中必不可少的设备,如果没有光刻机那么就没有办法生产芯片。光刻机对生产芯片来说是非常重要的,但是我国在光刻机研发方面一直都是落后的层次,这就导致了我国国内无法在芯片市场方面做出突破的重要原因。

我国光刻机水平虽然和世界顶尖水平还有着很大的差距,可是这两年我国在光刻机方面也做得很好了。最近,中国光刻机传来了一个重大好消息!

根据我国国内媒体报道,上海微电子设备有限公司已经研制成功了28nm光刻机技术了,还将在的时候正式的交付使用。可以说这一个消息对于国内的光刻机方面来说,这是一个让人兴奋的好消息,有了这一次光刻机的突破,那我们在芯片生产方面也就有希望了。

目前,世界上最先进的光刻机技术都已经达到了5nm的水平了,而我国现在才突破到28nm,这差距真的是一个天上,一个地下啊。虽然与世界顶尖技术相比,我们还有着很大差距,那我们也不可以妄自菲薄,ASML公司能光刻机方面达到这种技术,那是它集合了整个欧洲和美国的力量,我国光靠我们自己,能达到这种技术已经很强了。

我国先如今已经研制出了光刻机技术,待光刻机技术继续发展,等这项技术成熟之后我国的芯片产能方面就会得大大增强,芯片方面就不会被美国限制和垄断了。

特朗普肯定也没有意料的我国光刻机技术的突破,特朗普以为他限制了国内和华为的芯片供应,就是抓住了我国芯片的命脉。以为我们会被迫妥协,其实不然,只要我国一直坚持去研发,去完成我们的目标,那么不管是对于华为还是我们国家,就都没有妥协这二字。

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